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中紫外直接光刻设备在光电所研制成功

文章来源:光电所 发表时间:2017-04-12

  近日,一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队在国内研制成功。该设备采用特有的高均匀、高准直中紫外照明技术,结合光敏玻璃材料,实现基于光敏玻璃基底的微细结构直接加工,能够极大简化工艺流程,将有力促进光敏玻璃微细结构的光刻工艺技术“革命”,目前在国内尚未见有此类产品成功研发的报道。 

  光刻设备是用于微细结构加工的核心设备,在微电子、生物、医学和光学等领域得到全面应用。由于光刻工艺的限制,原有光刻设备大多是针对光刻胶曝光进行技术研发。而针对玻璃基底的微细结构加工具有特殊性:光敏玻璃光谱敏感特性不同于光刻胶、微细结构深宽比大和完全非接触曝光。近年来,针对玻璃基底的微细加工技术愈发重要,在微流控芯片、微光学元件以及OLED显示屏等新型微细结构的加工中需求迫切,也是国内外光刻设备研发的重要方向之一。因此,光电技术研究所微电子专用设备研发团队联合国内外科研机构,开展了汞灯光源、大口径高精度反射镜、中紫外镀膜和间隙测量等技术研发,成功提高了汞灯光源中紫外光谱能量,通过反射式光路结构保证光能利用率和准直性,精密间隙测量和控制技术实现非接触曝光,并进行了光敏玻璃直接光刻实验,实现了玻璃基底高分辨、高深宽比、大面积微细结构的直接光刻工艺。 

  该设备的成功研制,是光刻设备研发与光刻工艺应用结合的产物,将促进光刻工艺的革命性改进,符合国际光刻设备研究发展趋势,也使得我国在新型直接光刻设备研发中抢占先机。 

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