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光电所发展出一种超表面全息图批量化制备技术

文章来源:光电所 发表时间:2018-01-26

  全息技术能够是一种理想无辅助设备的虚拟现实技术,在3D显示领域、信息加密与存储、全息防伪等方面具有重要应用价值。但是目前全息技术常用的编码设备单元尺寸太大,限制了全息成像的观察效果,制约了全息技术的广泛应用。 

  超表面具备亚波长尺度(几十到百纳米)内调控光场相位及振幅的能力,是一种理想的全息图编码材料。目前超表面全息图的加工大多采用逐点扫描的方式,加工效率低、成本高,限制了全息技术的发展,发展批量化的制备方法具有很大的现实意义。 

  光电所微细加工与光学技术国家重点实验室利用表面等离子体共振光刻技术,成功实现了亚波长超表面全息图的批量化制备。表面等离子体光刻技术相对于目前大多使用的逐点扫描加工的方式具有加工效率高、加工成本低等优势。在光刻结构中,使用了共振腔体来放大倏逝波成分并调制成像面的电场分量,获得了高分辨率的各向异性超表面全息结构。此外,还在传统接触式表面等离子体光刻技术的基础上增加了空气间隙,这种分离式的光刻技术能够降低光刻过程中对于所用掩膜的损伤,进一步降低加工成本。最终加工的超表面全息图在激光光束的照射下,实现了预先期望的全息成像,证明了所提方法的可行性。 

  相关结果作为封面文章发表于《先进光学材料》(Advanced Optical Materials 2017, 5, 1700429)。 

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